激光熔覆的稀釋率和搭接率介紹激光熔覆的稀釋率和搭接率介紹 稀釋率的概念 稀釋率是指在激光熔覆中,由于熔化基材的混入而引起的熔覆合金成分的變化程度,用基材合金占總?cè)鄹矊拥陌俜致时硎荆ǚ枽牵?/span> H:熔覆層高度,h:基材熔深,W:熔覆層寬度 η=A2/(A1+A2)=h/(H+h) 不同修復工藝稀釋率對比 熱噴涂/等離子噴涂:η=0, 僅為機械結合,容易脫落 堆焊:η=30-60%,基體過度稀釋涂層, 熱影響區(qū)過大,容易產(chǎn)生焊接缺陷 激光熔覆:η<10%,稀釋率低,熱影響區(qū)小, 化學冶金結合,結構致密,修復效果好 搭接率的概念 單道熔覆時,熔覆層不是平面,而是凸面。(表面張力梯度引起的強制對流和潤濕性的共同作用) 熔覆層截面形貌 如果不進行搭接,不同道次連接處熔覆層有效厚度為0,表面粗糙度差。 多道熔覆時,相鄰熔覆道間的搭接寬度D0與單道熔覆層寬度W之比。 R0=D0/W x 100%
搭接率對熔覆層形貌的影響 R0偏?。合噜徣鄹驳乐g會出現(xiàn)明顯的凹陷區(qū), 但兩個熔覆道高度是一致的。 R0適中(40-50%):會有較好的熔覆效果, 且兩道熔覆道高度相同。 R0偏大:出現(xiàn)搭接區(qū)的凸起,且兩熔覆道高度不同。 如果繼續(xù)疊層熔覆,會將缺陷進一步放大,導致無法熔覆成型。 搭接率對熔覆層組織和性能的影響 搭接處金相組織
搭接處被激光重新加熱,樹枝晶更加明顯,未搭接部分受到熱傳導作用,產(chǎn)生自回火,硬度下降。 |